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GOS陶瓷薄膜

  • 由夹在PET基底和PET保护层之间的GOS陶瓷闪烁层组成
  • 非常适合与其他材料制成的闪烁阵列结合使用,实现双能X射线检测
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规格:

GOS 薄膜中 GOS 陶瓷闪烁层厚度示例如下(以下所示厚度为 GOS 闪烁体层本身的厚度,不包含 PET 基板和保护层):

GOS 闪烁层 厚度 (μm)
1 型 150
2 型 280
3 型 350

GOS 闪烁薄膜 是一种薄片,由 GOS 陶瓷闪烁层、PET 基底层和顶部保护性 PET 层组成。氧化硫化钆 (GOS) 陶瓷,化学式为 Gd2O2S,是一种出色的闪烁材料,具有高光输出、大密度和低余辉的特点。 GOS陶瓷薄膜通常与其他闪烁体材料制成的闪烁阵列(例如掺铊碘化铯闪烁体阵列)结合使用,利用两个不同能级的X射线实现双能X射线检测,其中GOS薄膜与闪烁阵列和滤光片堆叠在一起。 GOS薄膜经过优化,可吸收和转换低能X射线,而其他组成闪烁体阵列则经过优化,可探测高能X射线。

杭州煦和光电提供一系列GOS闪烁体产品,包括GOS闪烁晶体(铽激活GOS和镨激活GOS)、像素化GOS闪烁阵列以及本页指定的GOS闪烁体薄膜。我们可以根据您的需求,定制不同尺寸和厚度的GOS薄膜。


煦和光电的GOS陶瓷闪烁薄膜制造工艺(例如生产GOS: Tb​​薄膜)如下:

1.采用共沉淀法制备Gd2O3和Tb2O3混合粉末;

2. 高温硫化烧结形成GdSO4颗粒;

3. 加入粘合剂,压制成片,并与PET基底粘合;

4. 在出光面上粘贴保护层;

5. 获得Gd2OS2:Tb薄膜,发射峰为550nm。

 

图1. Shalom EO GOS闪烁薄膜结构图